2月14日上午10时，2011年度国家科学技术奖励大会在北京人民大会堂举行，胡锦涛等党和国家领导人参加了颁奖大会。我校与苏州苏大维格光电科技股份有限公司合作的项目“大幅面微纳图形制造技术与产业化应用”获得国家科学技术进步奖二等奖，陈林森研究员代表项目组成员参加了本次大会。
该项目是我校自2007年以来再次以第一完成单位获得的国家科技奖，项目的主要完成人为陈林森、沈雁、周小红、魏国军、浦东林、申溯、朱志坚、方宗豹、朱鹏飞、郭锡平。该项目解决了大幅面下微纳米结构图形的快速制造难题，提出并自主建立了微结构图形柔性制造生产线，填补了国内空白，提升了我国微纳制造行业的国际竞争力。项目获授权发明专利14项，授权实用新型专利2项，软件著作权5项，发表科研论文40余篇。项目成果在公共安全、显示照明、科学研究和印刷包装材料等行业应用，取得重大经济效益和社会效益，促进了我国相关行业的技术进步和国际竞争力。
该获奖项目主要成员大多数在35岁以下，通过专业分工、整体协同，体现出年轻研究人员的创新活力和团队精神，也展现出年轻人才自强努力的精神风貌。在此向该团队成员表示祝贺，希望我校青年教师也能够以此为榜样，努力进取，为学校争取更大的荣誉！
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